市場預測:2021年臺積電將全力推進3nm 資本支出超200億美元

發布時間:2021-01-04 16:35:41  |  來源:快科技  

對于芯片代工龍頭,臺積電正在加大自己的研發費用,從而獲得更領先的優勢。

據外媒報道稱,晶圓代工龍頭臺積電2020年營收同比增長超過30%,創下歷史新高,同時資本開支170億美元,也創下歷史新高。

報道中還提到,臺積電預計2021年隨著3nm產能建設,以及美國5nm工廠制造,資本開支將超過200億美元。

最新的調查中還顯示,在疫情導致對居家辦公和娛樂設備需求增加、5G智能手機大量推出、5G基站大規模建設等的推動下,全球芯片代工市場在2020年大幅增長,研究機構預計規模達到了846.52億美元,同比增長率高達23.7%。

對于2021年,研究機構預計全球芯片代工市場的規模仍將繼續增長,但同比增長率較2020年將明顯放緩。

之前有消息稱,臺積電正在籌集更多的資金,為的是向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機,而這些都是為了新制程做準備。

據悉,臺積電在材料上的研究,也讓1nm成為可能。臺積電和交大聯手,開發出全球最薄、厚度只有0.7納米的超薄二維半導體材料絕緣體,可望借此進一步開發出2納米甚至1納米的電晶體通道。

此外,臺積電正為2nm之后的先進制程持續覓地,包含橋頭科、路竹科,均在臺積電評估中長期投資設廠的考量之列。

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