三星3nm工藝或不在2021年大規(guī)模量產 2022年更為可行

發(fā)布時間:2020-04-07 14:39:40  |  來源:TechWeb  

據(jù)國外媒體報道,在5nm工藝即將大規(guī)模量產的情況下,3nm工藝就成了臺積電和三星這兩大芯片代工商關注的焦點,三星電子旗下的三星晶圓代工,此前設定的目標是在2021年大規(guī)模量產3nm工藝。

但外媒最新的報道顯示,三星3nm工藝已不太可能在2021年大規(guī)模量產,目前來看2022年將是更現(xiàn)實的時間點。

外媒是援引行業(yè)的消息,報道三星的3nm工藝可能推遲至2022年大規(guī)模量產的,推遲至2021年則主要是受當前疫情的影響。當前的疫情對物流和交通運輸服務造成了影響,導致3nm工藝所需的極紫外光刻機和其他關鍵生產設備的交付延期,進而導致了量產的時間推遲。

目前還不清楚三星競爭對手的3nm工藝是否會受到影響,如果競爭對手正常推進,對三星可能就會非常不利。

值得注意的是,作為目前全球僅有的一家能生產極紫外光刻機的廠商,阿斯麥此前已經(jīng)下調了今年一季度的業(yè)績預期,由2019年第四季度及全年的業(yè)績報告中預計的31億歐元到33億歐元之間,下調到了23億歐元至24億歐元。

阿斯麥調整一季度的業(yè)績預期,主要也是受疫情的影響,但他們也給出了3個方面的具體原因,其中就包括光刻機交付的延遲,部分廠商對他們的交付能力存在擔憂,為了加快交付進度,部分廠商甚至要求他們在完成正常的工廠驗收之前就交付。

從外媒此前的報道來看,三星的3nm工藝,將采用環(huán)繞柵極晶體管(GAAFET))技術,這是同7nm和5nm工藝所使用的鰭式場效晶體管(FinFET)完全不同的技術,面積可以縮小35%,此前的報道是顯示三星3nm芯片的性能較5nm可以替身33%,基于GAAFET技術的三星3nm原型工藝,此前已經(jīng)投產。

關鍵詞: 三星 3nm工藝

 

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